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平面研磨机和平面抛光机有什么区别

作者:Admin 发布于:[12/10/29]

平面研磨机和平面抛光机有什么区别

研磨和抛光是同一种机械运动,原理一样。

只是对于表面质量而言,抛光的表面光洁度比研磨要更高一些。

其实抛光液可以说是研磨的后道工序,可以在同一台平面抛光机上同时实现研磨和抛光。研磨分为粗磨,精磨,抛光则分为粗抛,精抛。

很多时候我们都是三道工序来进行产品表面质量的加工:粗磨,精磨,精抛。有了这三道工序,工件表面的平面度,平行度,粗糙度就相当高了。

有些客户精度要求没那么高的,特别是粗糙度要求没有那么高就只采用前两道工序,或者是精磨这一道工序。

具体的要看工件表面本身的质量,以及客户要求达到的质量。

研磨和抛光可以在同一台平面抛光机上实现,但是所用的配置却不一样。

研磨需要用研磨盘和研磨液,抛光则是用抛光液和抛光盘,抛光垫,抛光布,抛光轮等。

所用在一台平面抛光机上实现研磨和抛光时需要研磨后更换盘,液体等配置。

 

本文来自河南中原精抛光机制造厂:http://www.hnpaoguangji.com/zhidao/2012-10-29250.html,转载请注明出处!