平面抛光机抛光加工是应用较广的一种光整加工。

加工后精度可达最高级，表面粗糙度可达Ra0.1~0.006μm。既可加工金属材料，也可加工非金属材料。

抛光加工时，在研具和工件表面间存在分散的细粒度砂粒（磨料和抛光剂）在两者之间施加一定的压力，并使其产生复杂的相对运动，这样经过砂粒的磨削和抛光剂的化学、物理作用，在工件表面上去掉极薄的一层，获得很高的精度和较小的表面粗糙度。

平面抛光机的加工方法分为三个步骤，首先是干抛光，其次是湿抛光，最后是软磨粒。

1．干抛光:抛光时只需在研具表面涂以少量的润滑附加剂。砂粒在抛光过程中基本固定 在研具上，它的磨削作用以滑动磨削为主。

这种方法生产率不高，但可达到很高的加工精度和较小的表 面粗糙度值(Ra0.02～0.01μm)。

2．湿抛光:在抛光过程中将抛光剂涂在研具上，用分散的砂粒进行抛光。 抛光剂中除砂粒外还有煤油、机油、油酸、硬脂酸等物质。

在抛光过程中，部分砂粒存在于研具与工件之间，此时砂粒以滚动磨削为主，生产率高，表面粗糙度Ra0.04～0.02μm，一般作粗加 工用，但加工表面一般无光泽。

3．软磨粒抛光在抛光过程中，用氧化铬作磨料的抛光剂涂在研具的工作 表面，由于磨料比研具和工件软，因此抛光过程中磨料悬浮于工件与研具之间，主要利用抛光剂与工件表面的化学作用，产生很软的一层氧化膜，凸点处的薄膜很容易被磨料磨去。此种方法能得到极细的表 面粗糙度(Ra0.02～0.01μm)。

本文来自河南中原精抛光机制造厂：http://www.hnpaoguangji.com/news/2012-6-11167.html,转载请注明出处！